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半導體專用氮氣發生器的常見用途包括:氮氣保護氣氛:在半導體制造過程中,氮氣常用于提供惰性氣氛,防止氧化和污染。清洗工藝:用于清洗硅片及其他半導體材料,以去除雜質和顆粒。氣體傳輸:作為載氣在各種化學氣相沉積(CVD)和物理氣相沉積(PVD)過程中傳輸反應氣體。冷卻系統:在某些工藝中,氮氣可以用作冷卻介質,幫助控制溫度。包裝和儲存:在半導體組件的包裝和存儲過程中,氮氣可用于保護敏感材料,延長其使用壽命。環境控制:在實驗室和生產環境中維持氮氣濃度,以控制濕度和氧氣水平。這些用途確保...
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實驗室純水設備采用反滲透、離子交換、EDI等技術,有效去除水中的離子、有機物、細菌等雜質,確保出水水質達到超純水標準。設備具備自動化控制功能,操作簡單方便,能夠穩定生產符合實驗需求的多種規格純水或超純水。其出水水質電阻率通常高達18.25MΩ·cm以上,總有機碳(TOC)含量低,細菌及顆粒物質幾乎為零,滿足實驗室對水質的高純度和無菌要求。以下是對實驗室純水設備各組成部件功能和特點的簡要介紹,希望能夠幫助到您。1、進水系統:進水系統是重要組成部分,用于將自來水引入設備。進水系統...
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氮氣發生器利用氣體分子在分子篩表面上的擴散速率不同,從而實現分離氮氣和氧氣的目的。經過脫氧處理后,氮氣中的水氣會經過冷卻器進行脫水處理。然后,氮氣繼續進入干燥器進行干燥,使氮氣的露點達到-60℃左右。為了確保連續供應高純度氮氣,干燥器配置了兩臺設備。其中一臺干燥器用于吸附干燥,另一臺則用于再生已吸附飽和水氣的干燥器,為下一周期的吸附工作做好準備。氮氣發生器是一種用于產生高純度氮氣的設備,通常用于實驗室、醫療機構、工業生產等領域。以下是氮氣發生器的工作原理及作用:工作原理:氮氣...
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高壓氫氣發生器通過電解水或其他化學反應,將低壓氫氣升壓至高壓狀態,輸出壓力可達幾十至幾百兆帕,甚至更高。它具備安全可靠、穩定性好、可控性強、高效節能等特點,采用多種安全措施確保設備運行安全。同時,還能夠提供高純度、穩定的氫氣,滿足各種應用需求。在實驗室中,常用于氣相色譜分析,為檢測器提供工作氣體,確保精確的檢測和定量結果。為了確保高壓氫氣發生器的安全性、穩定性和長期使用效能,定期的維護保養尤為重要。以下是幾種關鍵的維護保養方法和注意事項:1、清潔與檢查定期清潔是保持設備運行良...
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實驗室氮氣發生器通常用于產生高純度的氮氣,常見于實驗室的分析儀器、氣相色譜儀等設備的供氣系統中。以下是關于實驗室氮氣發生器的故障排除和維護的一些建議:故障排除:無法啟動或停止工作:檢查電源供應:確保氮氣發生器的電源連接正常,插頭及插座無故障。檢查開關和控制面板:確認開關處于正確位置,控制面板顯示正常。檢查安全開關和保險絲:如果安全開關觸發或保險絲熔斷,可能是電氣問題導致。氮氣純度低:檢查壓力:確保供氣壓力符合設備要求,過低的壓力會影響氮氣純度。檢查濾芯和過濾器:定期更換氮氣發...
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