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應用領域 | 綜合 |
高純半導體專用氫氣發生器可以連續可靠的產生純度很高的氫氣,純度>99.99999%。從而使昂貴且危險的高壓氫氣鋼瓶告別實驗室,因更換鋼瓶而中斷重要分析工作的情況將不復存在。只需去離子水和供電,即可產生氫氣,一次加水即可持續工作15天,成本極低。氫氣發生器的安全、簡便性能使其替代了危險的高壓氫氣鋼瓶。
Hydrogen-500H系列高純半導體專用氫氣發生器是GC 或GC/MS 載氣的理想選擇。與氦氣相比,使用氫氣作為載氣能提高分析速度及靈敏度。
Hydrogen-500H系列高純半導體專用氫氣發生器
高純半導體專用氫氣發生器產品特點:
1.程序控制:儀器采用單片計算機控制,全自動工作,恒壓、恒流,氫氣流量可根據用量實現全自動調節。
2.安全可靠:配有水位自動安全裝置,超壓控制安全裝置,由單片機智能控制,靈敏可靠。
3.超高純度:將產生的氫氣通過Peculiar鈀合金膜過濾,由于鈀合金具有只允許氫及其同位素通過的特性,因此產生氫氣的純度可確保持續達到99.99999%。
4.操作方便:免運輸鋼瓶之勞,省搬運鋼瓶之苦,使用時只需打開電源開關即可產氫。可連續使用,也可間斷使用,產氫量穩定不衰減。不需要干燥劑(如:變色硅膠、分子篩等),免維護。
高純半導體專用氫氣發生器技術參數:
氫氣純度 | 1.00 |
氫氣流量 | 0-500ml/min |
輸出壓力 | 0-0.5Mpa |
壓力穩定性 | < 0.0001MPa |
供電電源 | 220V±10%, 50Hz |
消耗功率 | 300W |
外型尺寸 | 420×200×350mm |
凈重 | 約15Kg |
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